中午同学们顺利抵达蚌埠南站，由214所的对接人员安排入住酒店，随后展开了多项学习交流活动。

214所的常赟工程师为同学们详细讲解了深反应离子刻蚀（DRIE）工艺的基本原理和具体流程，结合实际案例展示了基于该工艺的MEMS芯片开发过程。常赟工程师的讲解深入浅出，使同学们不仅加深了对DRIE工艺的理论认识，还通过实例了解了其在芯片开发中的应用。同学们踊跃参与，积极提问，就工艺中遇到的问题与常赟工程师展开讨论，探讨解决方案，收获颇丰。

问题探讨

同学们自由活动，体验蚌埠当地的风土人情，品尝当地的特色美食。

在展厅中，同学们仿佛穿越了时间的长河，从MEMS在中国的起步到今天的非凡成就，每一项发明都让同学们惊叹不已。在这个过程中同学们认识到MEMS技术不仅是和国家的发展息息相关的，还正在迅速融入人们生活的方方面面，这大大激发了同学们的学习热情和历史责任感。在参观封测产线时，那些精密的设备和先进的技术，更是让同学们感受到了科技的力量和魅力。

下午三时，此次学习活动圆满结束！

中国兵器工业第二一四研究所

中国兵器工业第二一四研究所是中国兵器工业集团有限公司下属的唯一微电子专业研究所，也是国家军用微电子技术的骨干研究所和国家重点保军单位。该研究所始建于1979年，位于安徽省蚌埠市，2009年在江苏苏州设立了综合研发中心，后续还在合肥、西安和北京设立了研发和测试中心。

214所的主要研究领域包括半导体集成电路与特种器件、硅基MEMS/MOEMS器件与微系统、LTCC微波/毫米波器件与组件、智能传感与智慧物联、先进封装与3D微系统集成、混合集成电路与微小型电子信息系统、军用电子元器件可靠性技术等。在这些领域中，214所拥有“3+X”核心技术体系，其中“3”指的是MEMS技术、SCP技术、LTCC技术，而“X”代表其他高性能SoC、AD/DA、运算放大器、电源管理芯片等技术。

此外，214所还建有国内先进的七大工艺制造平台，包括6英寸高性能体硅MEMS器件与微系统工艺制造平台、6英寸特种半导体集成电路工艺制造平台等，科研生产建筑面积约9万平方米。这些平台为214所在微电子技术领域的研发和生产提供了强有力的支持。